裝飾膜的鍍制工藝

1．金屬件裝飾膜鍍制工藝

比較成熟的鍍膜技術(shù)有電弧離子鍍、磁控濺射離子鍍和復(fù)合離子鍍。下面分別從各類鍍膜技術(shù)中選取一種具有代表性的典型鍍制工藝進(jìn)行介紹。

1.1用電弧離子鍍的方法為黃銅電鍍亮鉻或鎳手表殼鍍制ticn膜。

采用小弧源鍍膜機(jī)和脈沖偏壓電源；

(1)工件清洗、上架、入爐

工件在入爐之前要經(jīng)過(guò)超聲波清洗、酸洗和漂洗三道工序。

首先是在超聲波清洗槽中放入按使用要求配制的金屬清洗劑，利用超聲波進(jìn)行脫脂、清洗。清洗之后，進(jìn)行酸洗，它可以中和超聲波清洗時(shí)殘余的堿液，還能起到活化處理的作用。然后進(jìn)行漂洗以徹底除去酸液，漂洗時(shí)必須采用去離子純凈水或蒸餾水。經(jīng)過(guò)三洗后，即時(shí)進(jìn)行烘干，溫度一般控制在100℃左右，時(shí)間為1h左右。也可以風(fēng)吹干后馬上人爐。

(2)鍍膜前的準(zhǔn)備工作

①清潔真空鍍膜室。用吸塵器將真空鍍膜室清潔一遍。當(dāng)經(jīng)過(guò)多次鍍膜時(shí)，真空鍍膜室的內(nèi)襯板還需作定期清洗，一般是半個(gè)月清洗一次。

②檢查電弧蒸發(fā)源。工作前，要確保電弧蒸發(fā)源發(fā)源安裝正確，絕緣良好，引弧針控制靈活,程合適，恰好能觸及陰極表面。

③檢查工件架的絕緣情況。工件架與地之間的絕緣必須須良好，負(fù)偏壓電源與工件架的接觸點(diǎn)點(diǎn)必須接觸良好。

以上幾項(xiàng)工作確保沒有問(wèn)題后，才可以關(guān)閉真空鍍膜室的門，進(jìn)行抽氣和鍍膜。

(3)抽真空

真空抽至6.6 x 10-3pa。開始是粗抽，從大氣抽至5pa左右，用油擴(kuò)散泵進(jìn)行細(xì)抽。在粗抽時(shí)，可以烘烤加熱至150℃。伴隨鍍膜室溫度的升高，器壁放氣會(huì)使真空度降低，然后又回升，等到溫度回升到6.6 x 10-3pa時(shí)方可進(jìn)行鍍膜工作。

(4)轟擊清洗

①氬離子轟擊清洗

真空度：通人高純度氬氣(99.999%)真空度保持在2～3pa。轟擊電壓：800～1000v。轟擊時(shí)間：10min.

此刻在真空鍍膜室內(nèi)發(fā)生輝光放電，放電產(chǎn)生的氬離子以較高的能量撞擊工件表面，將工件表面吸附的氣體、雜質(zhì)和工件表面層原子濺射下來(lái)，露出材料的新鮮表面。

②鈦轟擊

真空度：通人高純度氬氣使真空度保持在2 x 10-2pa。脈沖偏壓：400～500v，占空比20%。電弧電流：60～80a，輪換引燃電弧蒸發(fā)源，每個(gè)電弧蒸發(fā)源引燃1～2min。

(5)鍍膜

①鍍鈦

真空度：通人高純度氬氣，真空度保持在2 x 10-2pa。脈沖偏壓：200～300v，占空比50 %。電弧電流：60～80a，引燃全部弧源，時(shí)間2～3min.

②鍍ticn

真空度：通人高純度氮?dú)馐拐婵斩缺３衷?3～8) x 10-1pa，然后再逐漸加大c2h2氣體，隨著c2h2氣體量增大，色澤由金黃一赤金黃一玫瑰金一黑色變化。控制n2與c2h2兩種氣體的比例可以達(dá)到預(yù)定的色度。

電弧電流：50～70a。脈沖偏壓：100～150v，占空比60 %～80 %。沉積溫度：200℃左右。鍍膜時(shí)間：10～20min，膜層厚度0.2～0.5μm。

(6)冷卻

鍍膜工序結(jié)束后，首先關(guān)閉電弧電源和偏壓電源，然后關(guān)閉氣源、停轉(zhuǎn)架。工件在真空鍍膜室內(nèi)冷卻至80～100℃時(shí)，向鍍膜室內(nèi)充大氣，取出工件。