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專注于pvd真空鍍膜解決方案
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PVD真空鍍膜化學工藝是什么?

作者:admin 發(fā)布日期:2021-06-05 關注次數(shù): 二維碼分享
PVD即物理氣相沉積,是當前國際上廣泛應用的先進的表面處理技術。其工作原理就是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質部分離化,在氣體離子或被蒸發(fā)物質離子轟擊作用的同時把蒸發(fā)物或其反應物沉積在基材上。它具有沉積速度快和表面清潔的特點,特別具有膜層附著力強、繞性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點。 采用全球先進的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設備,及在此基礎之上與國際專家的工藝創(chuàng)新。憑借在裝飾鍍行業(yè)十多年的寶貴經(jīng)驗,為客戶提供最適合的涂層加工方案。
PVD鍍膜的屬性
?金屬外觀 顏色均勻一致 耐久的表面,在各種基本的空氣和直射陽光環(huán)境條件下永久保持良好外觀。顏色深韻、光亮。
?經(jīng)濟,可減少清洗和擦亮電鍍黃銅或金色所必須的時間和成本。
?對環(huán)境無害,避免化學中毒和VOC的散發(fā)。
?具生物兼容性。
PVD鍍膜特性
?卓越的附著力,可以折彎90度以上不發(fā)生裂化或者剝落(PVD鍍膜持有很高附著力和耐久力)。其它的技術,包括電鍍,噴涂都不能與其相比。
?可以蝕刻出任何能夠想象出的設計圖案。
?可以使用在內裝修或者室外。
?真空鍍膜,抗氧化,抗腐蝕。耐腐蝕,化學性能穩(wěn)定,抗酸。手機外殼PVD鍍膜抵抗力。

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