膜厚不均勻：無論監(jiān)控器的精度如何，它只能在真空室中的單個位置控制膜厚。一般來說，它是工件支架的中間位置。如果在該位置的膜厚度不是絕對均勻，然后遠(yuǎn)離中心位置的基板將無法獲得均勻的厚度。盡管屏蔽罩可以消除長期的不均勻性，但薄膜的厚度仍會發(fā)生一些變化，這是由于蒸發(fā)源的不穩(wěn)定性或薄膜材料的不同性能所致，因此幾乎不可能消除，但是正確選擇真空室和蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)可以使這些影響最小化。

在過去的幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造商提供高性能，小尺寸，簡單的光學(xué)鍍膜系統(tǒng)。同時，用戶不僅降低了性能要求，而且得到了改善，特別是在薄膜方面。就密度和吸水后光譜變化的最小化而言，系統(tǒng)的平均尺寸已減小，使用小型設(shè)備生產(chǎn)光學(xué)鍍膜也已成為純粹的技術(shù)問題。因此，選擇現(xiàn)代光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的關(guān)鍵在于仔細(xì)考慮以下因素：即鍍膜產(chǎn)品的預(yù)期性能，基材的尺寸和物理特性以及確保所需要的所有技術(shù)因素，高度一致性。