PVD技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜（包括電弧蒸發(fā)、電子槍蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù)）、濺射鍍膜（包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù)），這些方法統(tǒng)稱(chēng)物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition），簡(jiǎn)稱(chēng)為PVD。行業(yè)內(nèi)通常所說(shuō)的“IP”（ion plating）離子鍍膜，是因?yàn)樵赑VD技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過(guò)程并起到重要作用，為了強(qiáng)調(diào)離子的作用，而統(tǒng)稱(chēng)為離子鍍膜。

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