真空鍍有三大分類，根據(jù)方法不同分為蒸發(fā)鍍及濺射鍍、離子鍍。

  （1）蒸發(fā)鍍是在真空度不低于1~2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱、電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱震動(dòng)能量超過表面的束縛能，從而使大量的分子、原子蒸發(fā)或升華，并直接沉積在基片上形成薄膜。

  通俗的說，就是在高真空環(huán)境下給金屬加熱，使其熔融、蒸發(fā)，冷卻之后在樣品表面形成金屬薄膜的方法。

  蒸發(fā)鍍被金屬材料包括金、銀、銅、鋅、鉻、鋁等，其中應(yīng)用的最多的是鋁。

  （2）濺射鍍是利用氣體或分子溢出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。

   濺射鍍的材料廣泛，任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點(diǎn)、低蒸汽壓的元素和化合物，濺射膜與基板之間的附著性好，薄膜密度高，膜厚可控制和重復(fù)性好等。

   與蒸發(fā)鍍相比，濺射鍍?nèi)秉c(diǎn)是設(shè)備比較復(fù)雜、需要高壓裝置、速度比蒸發(fā)鍍慢。

（3）離子鍍是將蒸發(fā)鍍和濺射鍍相結(jié)合的一種方法，這種方法的優(yōu)點(diǎn)是得到的膜與基板間有極強(qiáng)附著力，有較高的沉積速率，膜的密度。