pvd鍍膜由于具有焰流溫度高、射流速度快等特點(diǎn)，pvd鍍膜技術(shù)幾乎可以噴涂任何粉末材料，且能夠制備出高質(zhì)量的涂層，特別是高質(zhì)量的陶瓷涂層。pvd鍍膜在國(guó)防、工業(yè)及航空航天等重要領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景，已成為高科技維修、制造與再制造的關(guān)鍵技術(shù)。

pvd鍍膜材料(粉末或絲材)送入某種熱源(電?。紵鹧?、等離子體等)中加熱至比較好的熔融狀態(tài)，并利用高速射流或氣流將其噴射到基體表面形成涂層的一種工藝。pvd鍍膜最早出現(xiàn)于20世紀(jì)初期的瑞士。近百年來(lái)，隨著各種熱噴涂設(shè)備的研制、新的熱噴涂材料的開(kāi)發(fā)及新技術(shù)的應(yīng)用，熱噴涂涂層的質(zhì)量不斷得到提高。特別是20世紀(jì)40年代pvd鍍膜技術(shù)產(chǎn)生后，熱噴涂技術(shù)已廣泛應(yīng)用于軍事、航空航天、紡織、機(jī)械、電力及生物工程等各個(gè)領(lǐng)域。

隨著高科技的發(fā)展，現(xiàn)代工業(yè)要求涂層更為致密、強(qiáng)度更高、可靠性更好。而涂層的致密性、結(jié)合強(qiáng)度和可靠性在很大程度上依賴于噴射熔滴的熔化程度和速度，于是高能、高速和高效噴涂成為了當(dāng)今國(guó)內(nèi)外熱噴涂技術(shù)的主要發(fā)展方向。

所謂pvd鍍膜技術(shù)是利用非轉(zhuǎn)移型等離子弧與高速氣流混合時(shí)出現(xiàn)的“擴(kuò)展弧”，得到穩(wěn)定聚集的超音速等離子焰流進(jìn)行噴涂的方法。與普通等離子噴涂、爆炸噴涂、高速火焰噴涂等其他噴涂技術(shù)相比，超音速等離子噴涂兼有焰流溫度高和粒子飛行速度快的優(yōu)點(diǎn)，等離子弧中心溫度可達(dá)32000K，粒子速度能達(dá)到400～800m/s。pvd鍍膜特別適合各種高熔點(diǎn)陶瓷、難熔金屬和金屬陶瓷等噴涂材料，獲得的涂層致密性、強(qiáng)韌性和結(jié)合強(qiáng)度都有顯著的提高。

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