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pvd等離子體鍍膜

作者:admin 發(fā)布日期:2020-11-28 關(guān)注次數(shù): 二維碼分享

這里指的是PVD領(lǐng)域通常采用的冷陰極電弧蒸發(fā),以固體鍍料作為陰極,采用水冷、使冷陰極表面形成許多亮斑,即陰極弧斑?;“呔褪请娀≡陉帢O附近的弧根。在極小空間的電流密度極高,弧斑尺寸極小,估計約為1μm~100μm,電流密度高達(dá)l05A/cm2~107A/cm2。每個弧斑存在極短時間,爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點處的鍍料,蒸發(fā)離化后的金屬離子,在陰極表面也會產(chǎn)生新的弧斑,許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失,所以又稱多弧蒸發(fā)。 最早設(shè)計的等離子體加速器型多弧蒸發(fā)離化源,是在陰極背后配置磁場,使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)加速效應(yīng),有利于離子增大能量轟擊量體,采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜,離化率較高,所以又稱為電弧等離子體鍍膜。 由于鍍料的蒸發(fā)離化靠電弧,所以屬于區(qū)別于第二節(jié),第三節(jié)所述的蒸發(fā)手段。

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